广东绿深环境工程有限公司

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半导体污水处理 半导体污水处理设备 提供污水处理设计方案

价 格
¥ 9000.0 ~ 36000.0
起订量
≥1
规格
L1 ¥9000.0/台 20台可售
L2 ¥18000.0/台 20台可售
L3 ¥27000.0/台 20台可售
L4 ¥36000.0/台 20台可售
加工定制 :
处理污水量 :
0.2(m3/h)
品牌 :
GP
型号 :
059
臭氧用量 :
5000(g/h)
空气量 :
500(m3/min)
贮气罐容积 :
450(m3)
流量计规格 :
15(m3/h)
出水管口径 :
600(mm)
进水管口径 :
500(mm)
外形尺寸 :
150*140*135(cm)
曝气机功率 :
5.5(kw)
水泵功率 :
5.5(kw)
规格 :
L1,L2,L3,L4

半导体污水处理 半导体污水处理设备 提供污水处理设计方案


随着电子产品应用领域日益扩大,半导体对我国发展具有重要的意义。半导体涉及行业广泛,根据生产原料及工序的不同,产生废水的废水性质也不同,但都存在着排水量大,污染能力强的特点,严重危害生态环境健康的同时也制约其发展。


工作原理:


含氟废水一般采用化学沉淀法,投加钙盐与水中的氟离子形成CaF2,再加以混凝剂辅助即可去除水中的氟离子。出水要求高时,可与生化法、吸附法等联合运用。

有机废水一般采用经济的生化法,如单独的好氧法或与缺氧法、厌氧法组合工艺,对于废水中COD、氨氮、总氮等常规污染物去除效果可观。


金属离子废水则需针对不同废水不同种类进行选择,常用的有化学沉淀法、吸附法、离子交换法等。


半导体行业生产需水甚多,用水要求不高,一般建议将废水做回用处理,以节约生产成本。


特点:


根据半导体生产废水污染物的特点,可将半导体废水分为三类,主要来源于生产过程中产生的含氟废水、有机废水及金属离子废水,详细介绍如下:


1、含氟废水,废水主要来自于半导体生产工序的刻蚀段,由于使用了大量的氢氟酸、氟化*等试剂,产生的污染如氟化物、氨氮等浓度较高,废水一般呈强酸性;


2、有机废水,其污染物质主要是一些常规污染物,生产浓度跟生产工艺及操作管理水平关系较大,COD一般在200-3000mg/L;


金属离子废水,半导体废水中的金属离子种类众多,主要如铜、镍、锡、铅、银等,浓度一般在几十mg/L。


处理难点分析:


高浓度的含氟废水处理难度大,一般的化学沉淀法难以彻底去除水中的氟离子,在排放要求高的时候,应对其采用多种组合工艺处理。


半导体有机废水浓度不会太高,但不同企业的水质变化大,其进水水质需根据化验监测结果来确定。


对于不同种类的高浓度金属离子废水,应该分开收集进行处理,若废水中含金属离子种类较多,工艺流程会较长。



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